Основной недостаток

рассматриваемого метода, как уже отмечалось, - наличие в газовом потоке капельной фазы. Микрокапли, осажденные на поверхности, определяют неоднородность покрытия, его шероховатость. Разрушение таких покрытий происходит вследствие выкрашивания микрочастиц. Для снижения содержания капельной фазы наиболее часто используют следующие технологические приемы:

1) проводят дегазацию катодов (используют катоды, полученные методом вакуумной плавки);

2) осуществляют сепарацию плазменного потока в электрическом или магнитном полях;

3) оптимизируют режимы испарения. При увеличении тока дуги повышается содержание капельной фазы, которая неблагоприятно сказывается на свойствах покрытия. Рекомендуется проводить испарение при минимальном токе дуги. Однако в этом случае значительно снижается скорость осаждения покрытия, поэтому для получения высокой производительности процесса осаждения установки комплектуются несколькими электродуговыми испарителями. При этом их размещение под разными углами к поверхности подложки позволяет значительно повысить однородность и равнотолщинность формируемых покрытий.

Технология нанесения покрытий электродуговым испарением включает следующие основные стадии:

1. Очистка, промывка детали. Наиболее эффективна очистка в ультразвуковой ванне.

2. Закрепление детали в вакуумной камере и создание необходимой степени вакуума.

3. Нагрев и очистка детали методом ионной бомбардировки (включается электродуговой испаритель и на деталь подается потенциал смещения ~1000 В).

4. После достижения необходимой температуры подача потенциала на деталь прекращается и проводится нанесение покрытия.

5. Разгерметизация вакуумной камеры, снятие деталей и контроль качества покрытия.